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Scope of business

事业范围

1.事业现状


光学设备是指金属卤化灯、高压水银灯、UV LED等光源照射到物体,进行曝光、硬化、干燥、效率检查、杀菌等作业的设备。主要广泛应用于Display、半导体、汽车、太阳光、精密机械等产业的核心工程设备中的一员。这不仅是我公司主要的主力事业﹐而且和VISION一样,是我公司核心力量中的一员。

DIT公司目前以光学设计技术与光控技术为基础,制造可以改善液晶面板与太阳能电池光效的设备:同时也在推进以后能应用于FILM、TSP、Flexible Display等各种设备的光学SOLUTION的开发及其产业化。

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2.光学相关概念


光Light ?


·又叫可见光..(Visible Rav.现代在广义上指所右的申磁沽谱_《Flectromaanetic snectrum)

·作为在真空中传播的物理实体.具有能量.运动量.各运动量及波动的性质,所以可以根据波长或者频率而运动.

·人类能够感知波长为约40Onm-~700nm的电磁波﹐并把这种电磁波分类到光. tromagnetic wave.tromagnetic wave.·由于真空中的电磁波的速度与光速一样,因此把光分为电磁波的一种。


电磁波的特性与应用领域


Radio(电波):是在没有人为引导的情况下传到空间的电磁波,广泛应用于无线通信、收音机、TV广播、雷达等。

Microwave(微波):杀菌力强,易被植物或水吸收后产生热量,主要的应用有微波炉。

Infrared Ray(红外线):以波状形式传播热量,并利用这种热效特性应用于红外线烘干及加热,并且利用其消毒灭菌及光学特性,广泛应用于文件鉴定或红外线相机等多种多样的产业。

Visible Ray(可见光线)电磁波谱中人眼可以感知的领域,狭义上的光。

Ultraviolet(紫外线):波长比可见光短的电磁波﹐在人体中可合成维生素D.并且杀菌作用和化学作用较强因此长时间被紫外线暴露时对皮肤有恶劣影响。

X-Ray(X射线):有很高的穿透能力,利用此性质应用于拍摄人体内部照片或航空行李检查等。

Gamma Ray ( x射线):放射能及电磁-阳电子消灭等原子核过程中产生的最高能源领域的电磁波,用于医疗上。


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3.核心技术



口光源控制技术


用光直接照射对象体,为测定其物性的介质、光效率,必须确保光的均匀性及精照度,同时要明确理解金属卤化物灯、高压汞灯、荧光灯、LED灯等各种各样的光源所持有的优点和界限。DIT以其独特的光源控制技术为背景,开发和供应多数的UN硬化设备及太阳光模拟器。


光学涂层技术


光学涂层技术是在需要改善光效率的器材( Glass、Film )上做AR(防止反射)、SC(自我净化)、AF(防止指纹)涂层,从而强化其功能,并增加DISPLAY、Film、太阳电池等领域中的产品的附加价值。DIT通过开发比以往的光学涂层SOLUTION更先进的涂层SOLUTION及涂层设备,强化Film&浍层领域的力量。



1.UV硬化设备



- uv (Ultra Violet Ray)


-波长比可见光短,由于其能量高,所以应用于各种产业。-各种波长的特点及应用

·波长越短能量越强,但渗透力会越弱。

·UV-A( 315~400nm ):在这光谱带使用可硬化(Curing )的光硬化剂(Monomer ),并多用到印刷、涂层、包装等产业中。最常用的波长为356nm,叫做black light。

· UV-B( 280~315nm ):这光谱带中杀菌特性较强,应用于空气杀菌器、清洗器等。

·UV-c( 180~280nm ):增加物质的分子活动,破坏表面的有机物的结合,氧化为二氧化碳和水分。利用这种特性应用于杀菌及表面清洗作业中。

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-UV应用产业


一硬化(Curing):近期多用于印刷、涂层、包装产业等的设备,在溶液中添加液状的单位体( Monomer )后,使UV产生化学千燥反应的方法。

一曝光(Photo Resistor):对光有反应的物质(Photo-resist, PR感光液)在涂层的试件上放置所需要的PATTERN已形成的掩码,并照射UV转录模式的设备。主要应用于精密制造半导体、LCD等微细的          PATTERN的工程。

一杀菌、清洗:是应用UV的强烈杀菌清洗功能的设备,从之前开始就广泛应用的UV的代表性的应用技术,主要用于餐具清洗器、烘于机、净水器等,还利用表面清洗及介质效果,活用于LCD生产工程等所     有产业。


-什么是W硬化设备UV curing System ?


-UV硬化指的是接受UV后变硬的现象,与一般的墨水或涂料的烘干方式不同,是把添加成为高分子之前的高分子原料(Monomer〉或者(Oligomer)的溶液,用UV产生化学反应后变硬的方式。

-般的烘干方式主要用的是,使添加到溶液的稀释剂(Thinner〉或溶媒(Solvent)汽化的方式。但这种方式在烘干对象时因热化会有所变形,所以限用于塑料等不耐热的材料。

-但UV硬化方式烘干较快,不局限于任何对象。因此作为一种新的制造方式来使用,以保护敏感的电子元、SEALING.涂层等用途,迅速扩散到电子备品市场等各种产业。


-LCD板制造工程中的UV硬化工程

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回顾TFT-LCD全工程以TFT-Array工程(下板-彩膜工程)(上板)-液昌工程-模组工程-检查机出货工程等大的5个阶段组成。其中液晶工程( TFT陈列基板和彩膜基板之间形成液晶CELL的工程)中应用UV硬化工程.

TFT-Array基板和Color Filter基板合着的状态下注入液晶后,再加入电压的状态下通过UV照射工程时,液晶形成Pre-Tilt,没有上板ITO Pattern也能快速应答。



-LCD液晶UV硬化设备


是指为了提高LCD基板的液晶应答速度,在混合光反应物质的液晶上照射UV,使之硬化的in-line设备。其优点是能够在大面积的LCD原板上均匀地照射UV、并可自动控制温度及UV照度。

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设备规格

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2.LCD太阳光模拟器



-太阳电池?


-是把太阳的光能转换为电能的设备。

·不需要供给太阳光以外的其他的燃料,具有无二次污染的长处﹐所以堪称为环保能源。

·因环境污染问题太阳光产业起着带头作用,因其制作技术的发展使进入门槛低、普及性提高,使其市场得到扩大。

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-太阳能电池大体分为晶型和薄膜型,两者最大的差异是模组的生产过程。

'晶体型的太阳能电池以硅晶片为基板的反面,薄膜型太阳能电却以基板上形成的素材薄膜为其基板。由于单位能源变换率高,成为目前太阳能电池市场的主流,占市场的70%。

·虽然薄膜型太阳能电池的能源效率比晶体型底,但其工程程序单纯,生产性高,不局限于素材薄膜形态的特性,并且可以制作可弯曲的柔软的基板。基于这些优点太阳能电池模组的活用性非常高,最近其市场规模也在迅速成长。

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·太阳电池制作工程


薄膜太阳能电池的工程与以往的半导体、LCD工程相似﹐所以在素材/电极方面分别反复蒸着/PATTERN工程。现在大部分的太阳能电池工程,是在完成阶段利用Solar Simulator设备评价基板的变换效率。

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.什么是太阳光模拟器?


是在生产工程中评价太阳能电池原板的性能﹐并检查测量不良的设备。使用属于超高压放电灯( high-

pressure discharge lamp)的命气灯(Xenon lamp)等来制作人工太阳光源,并检查原板的反应。随着太阳能电池的市场规模扩大,产能也随着提高﹐在这种情况下,能够有效生产电池的工程设备及检查设备的制造规模也迅速增加。

这种设备根据光的照射形态可分为连续照射方式(Continuous Type)和脉冲方式(Pulse Type)。虽然连续照射方式比脉冲方式得到更好的评价﹐但很难实现太阳模拟光源,所以目前还只用在实验室,大多数量产设备上用的是Pulse Type。


·太阳光模拟器光源一LED


随着太阳能电池的生产技术发展,其需求也快速增加,现需要对生产性及成本方面有优势的大面积薄膜型太阳能电池的生产技术,同时对能够评价的新一代大面积评价设备的需求也在增加。根据这些情况﹐光源尺寸也走向大面积化,因此如耗能低廉的的LED等,低耗能、高效率光源的需求也在增加。

另一方面,为了减少成本和提高生产性,积极研究Roll to Roll方式的连续生产工程方式,为此也需要像太阳光模拟器的连续照射的方式。之前氤气灯方式很难实现连续照射的方式,但使用LED灯可以实现连续照射和脉冲两种方式。


·事业促进方向


将来随着卷对卷制程的太阳能电池方式的稳定﹐预计在成本方面有优势的薄膜型太阳能电池起带头作用。我们正在开发DIT的核心技术——光控技术应用,及利用LED光源的Solar Simulator,将来不仅会开发脉冲方式,还会实现连续照射方式,抢占太阳能电池产业初期的平价设备的需求。

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目标性能指标

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3.ARCoating System(AR: Anti-Reflective=防止反射)


-AR涂层的透过率改善原理


是通过玻璃表面涂层减少反射率来提高Display的视认性,或提高产品的透过率为目的的技术,用于提高太阳能电池的透过率及效率,及改善DISPLAY性能方面。

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-AR涂层工程


1.Dry Cleaning :表面改质(去除油膜、强化玻璃亲水性)

2.Wet Cleaning :去除异物及Cooling

3.Coating :覆膜工程Parameter(玻璃传送速度/Mist发生量/Mist流入气流抑制/溶液温度)

4.SoftBaking : 1次干燥(IR),为了改善涂层性去除水分

5.Hard Baking :2次干燥(热风、高温),去除膜内残留水分和强化膜

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- Mist Coater


现DIT公司开发Mist Coater方式来代替原有的常用的Slit Coater。Mist Coater方式与Slit Coater不同,直接把溶液粒子化使该粒子自然蒸着于玻璃的方式,溶液的蒸着效率高﹐并很少受到对象的形象变化影响。而且该系统的结构比较简单在产品价格竞争方面会占有一定的优势。

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设备规格

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